第236章 当年我们的光刻机也百花齐放554(1 / 2)
就只是知道申城微电子是国内最先进的光刻机研发和制造单位。
申城微电子公司研发出来了后道90纳米光刻机,只不过因为大量采用国外的零部件,直接被国外零部件厂商断供了。
申城微电子公司研发出来的光刻机直接就没有办法实现量产。
不能够实现产品量产,也就意味着前期投入的研发费用收不回来。
申城微电子公司只能够转而去研究前道光刻机。
前道光刻机主要应用于半导体屏幕的。
是的,屏幕也是由光刻机来生产的。
可现在却有人告诉陈怀庆,华国的光刻机并不差。
陈怀庆抬头看向赵建胜:“各位领导,你们确定给我看的资料,没有掺假?”
1980年自动对准分布投影光刻机研制成功,加工最细线宽为0.8微米。
此时在国内,光刻机研发团队还真的不少,不像是最后,就剩下申城微电子一个独苗。
109厂是高技术半导体器件和集成电路研制生产中试厂。
赵建胜嗤笑一声:“怎么,很惊讶?”
陈怀庆:“不仅仅是惊讶,还很难以置信。本来,我以为我们的光刻机技术很落后,可却没有想到,国家已经发展到了这个程度。”
此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比,差距绝对不会太大,可能也就在五年内。
不像是到了21世纪之后,这个差距被拉大到了四代。
到了euv光刻机,光刻机才是
也就是说,此时国内的光刻机水平处在
当然了,全球范围的光刻机水平也都还在