第641章 新一代光刻机1422（1 / 2）

　　开始的时候，零部件的国产化率就要高出很多。

　　 像是mota800光刻机在刚出的时候，国产化率只有百分之二十几，而到了现在，mota400光刻机的国产化率直接是百分之四十起步的。

　　 提升了十几个百分点。

　　 这无疑来讲，是一个相当巨大的进步。

　　 mota400光刻机属于

　　 可以实现最小400nm的工艺节点，当然，通过特殊的工艺制程的话，可以生产更低节点工艺的芯片。

　　 只不过在成本上面，可能会是稍稍贵了那么些。

　　 光刻机最为重要的，就是光源。

　　 现在采用的光源都属于深紫外光。

　　 下一代光源也已经确定了，是波长248nm的krf光源。

　　 但是，已经有一个新的概念被提了出来，那就是极紫外光刻机。

　　 这可能很多人都不熟悉，换上一个说法：euv光刻机。每一次光源的改进，都是能够显著提升光刻机所能实现的最小工艺节点。

　　 只不过极紫外光刻机这个新概念被提了出来，但是却没有企业往这个上面投钱。

　　 很简单的原因，极紫外光想要作为光源用到光刻上面，技术难度实在有着些过于的高了些。

　　 反正，这属于一个概念性的东西。

　　 市场上面的光刻机，还依旧的能够满足需求，大家对于这极紫外光刻机并不急着要。

　　 实际上，asml在1999年的时候才开始进行euv光刻机的研发工作。

　　 计划是通过五年时间，在2004年的时候，就推出euv光刻机产品。